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Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學(xué)惰性

Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學(xué)惰性

更新時間:2026-02-09

訪問量:99

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:德國

簡要描述:
Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學(xué)惰性
化學(xué)惰性與環(huán)境穩(wěn)定性
LD-A-級CaF?晶體具備 化學(xué)惰性,在常溫下不與強酸(除濃H?SO?、HF外)、強堿、有機溶劑發(fā)生反應(yīng),可耐受半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學(xué)環(huán)境的腐蝕,表面無變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經(jīng)疏水/疏油鍍膜處理后,水接觸角≥110°,可有效防止水汽、油污吸附,在高濕度(RH≤95%)環(huán)境下使用無潮解、霧化
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Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學(xué)惰性

  化學(xué)惰性與環(huán)境穩(wěn)定性

LD-A-級CaF?晶體具備 化學(xué)惰性,在常溫下不與強酸(除濃H?SO?、HF外)、強堿、有機溶劑發(fā)生反應(yīng),可耐受半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學(xué)環(huán)境的腐蝕,表面無變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經(jīng)疏水/疏油鍍膜處理后,水接觸角≥110°,可有效防止水汽、油污吸附,在高濕度(RH≤95%)環(huán)境下使用無潮解、霧化問題。

此外,晶體的抗輻射性能經(jīng)優(yōu)化,在193nm高功率激光長期輻照(累計能量≥10? J/cm2)下,無明顯的色心形成,光學(xué)性能衰減≤1%,遠優(yōu)于普通CaF?晶體(衰減≥5%),保障光學(xué)元件的長壽命使用,降低高光學(xué)系統(tǒng)的維護成本。

 Hellma LD-A-級CaF?(193nm)核心技術(shù)參數(shù)表

參數(shù)類別具體指標測試條件/說明
線性吸收系數(shù)≤0.001 cm?1λ=193nm,室溫
193nm透光率≥92%厚度10mm,未鍍膜
光學(xué)均勻性Δn≤1×10??/cm20℃,λ=632.8nm
雙折射≤5×10??193nm波段
熱膨脹系數(shù)18.9×10?? K?120℃~200℃
熱導(dǎo)率9.7 W/(m·K)25℃
維氏硬度158 HV500g載荷
抗激光輻照性能性能衰減≤1%累計能量≥10? J/cm2@193nm
表面粗糙度Ra≤0.5nm拋光面
化學(xué)惰性耐酸堿/有機溶劑(除HF、濃H?SO?)常溫,浸泡72小時沈陽漢達森yyds吳亞男

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